環(huán)氧樹脂/重結(jié)晶碳化硅復(fù)合材料的抗腐蝕性能
摘要
以E44型環(huán)氧樹脂 (EP) 為填充材料,制備了環(huán)氧樹脂填充重結(jié)晶碳化硅 (EP/RSiC) 復(fù)合材料。通過對表面形貌、動(dòng)態(tài)電位極化曲線、電化學(xué)阻抗圖譜、腐蝕速率進(jìn)行分析,研究了EP/RSiC在靜態(tài)室溫條件下2 mol/LH2SO4溶液和4 mol/L NaOH溶液中的腐蝕行為。結(jié)果表明:EP/RSiC復(fù)合材料結(jié)構(gòu)致密,具有較低的腐蝕電流密度和較高的自腐蝕電位,抗腐蝕性良好。EP/RSiC復(fù)合材料的腐蝕由SiC的活性溶解造成,因此EP/RSiC復(fù)合材料更容易受到堿性溶液的腐蝕,并且其腐蝕行為受電荷傳遞控制;EP/RSiC復(fù)合材料的腐蝕速率隨EP填充量的增加而減少。15% (體積分?jǐn)?shù)) EP/RSiC的抗腐蝕性最佳,在2 mol/L H2SO4溶液中的腐蝕速率為152 mg/(dm2·d),在4 mol/L NaOH溶液中的腐蝕速率為310 mg/(dm2·d),與RSiC相比其腐蝕保護(hù)效率分別達(dá)到90.5%和93.7%。
關(guān)鍵詞: 重結(jié)晶碳化硅; 環(huán)氧樹脂; 復(fù)合材料; 腐蝕; 電化學(xué)
自從人類使用材料以來,腐蝕就一直是一種造成材料性能退化的不可逆轉(zhuǎn)自然現(xiàn)象,材料腐蝕會引起設(shè)備、機(jī)械、管道等破壞[1,2],且高溫、高壓、強(qiáng)酸或強(qiáng)堿的工作環(huán)境對材料提出了更高的要求。在陶瓷材料中,重結(jié)晶碳化硅 (RSiC) 具有純度高、硬度高、耐磨損、熱膨脹系數(shù)小、化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定和耐腐蝕等優(yōu)點(diǎn),可用于強(qiáng)腐蝕性環(huán)境中[3,4,5,6]。但是由于自身在燒結(jié)過程中不產(chǎn)生收縮的特征使得其致密度不高,易產(chǎn)生氣孔且氣孔基本為開口連通結(jié)構(gòu)[7],這使得RSiC與腐蝕介質(zhì)的實(shí)際接觸面積遠(yuǎn)大于RSiC的表面積,導(dǎo)致其抗酸堿腐蝕性下降。研究[8,9,10]表明,RSiC在酸性和堿性溶液中會發(fā)生腐蝕。Weidenmann等[11]研究表明,RSiC因?yàn)槠浔旧砭哂休^高的氣孔率,所以更容易受到腐蝕。Kim等[12]和Cook等[13]研究表明,潮濕氛圍能加速SiC顆粒的溶解。
研究[14,15,16]認(rèn)為,E44型環(huán)氧樹脂具有良好的粘結(jié)性與密封性,能耐酸堿和其他介質(zhì)的腐蝕,是一種常用的防腐材料。如果采用E44型環(huán)氧樹脂填充RSiC,制備成環(huán)氧樹脂/重結(jié)晶碳化硅復(fù)合材料 (EP/RSiC),就可以降低RSiC與腐蝕介質(zhì)的接觸面積,有可能提高RSiC的抗酸堿腐蝕性。目前,對于EP/RSiC在強(qiáng)酸、強(qiáng)堿溶液中腐蝕的研究較少。
本文采用E44型環(huán)氧樹脂對RSiC進(jìn)行填充,制備出不同填充量的EP/RSiC,并對其表面形貌、動(dòng)態(tài)電位極化曲線、電化學(xué)阻抗圖譜、腐蝕速率進(jìn)行分析測試,探究了E44型環(huán)氧樹脂填充量對RSiC抗酸堿腐蝕性能的影響,以期為RSiC的研究提供基礎(chǔ)數(shù)據(jù)。
1 實(shí)驗(yàn)方法
1.1 實(shí)驗(yàn)原料及實(shí)驗(yàn)設(shè)備
RSiC為實(shí)驗(yàn)室自制,平均氣孔率約15%~17%。實(shí)驗(yàn)所用濃H2SO4,NaOH,無水乙醇,1,3丁二烯均為分析純;環(huán)氧樹脂 (E44型) 為工業(yè)級。
采用NEXUS 470型Fourier變換紅外光譜儀 (FT-IR) 對試樣進(jìn)行測試,測試使用波數(shù)范圍500~4000 cm-1。采用JSM-6360LV型掃描電子顯微鏡 (SEM) 觀察試樣腐蝕前后表面及斷面形貌。采用SHIMAD-ZU XRD-6000型X射線衍射儀 (XRD) 對材料相組成進(jìn)行分析,實(shí)驗(yàn)參數(shù)為:CuKα (λ=0.15418 nm),電壓35 kV,電流30 mA,掃描范圍5~50°,掃描歩寬0.02,每步時(shí)間10 s。
1.2 試樣處理
把RSiC切成10 mm×10 mm×6 mm立方體,然后進(jìn)行拋光處理,用無水乙醇溶液清洗干凈后備用。稱取一定量E44-環(huán)氧樹脂在75 ℃下預(yù)熱30 min,待其具有較好流動(dòng)性后取出,再加入固化劑混合均勻 (環(huán)氧樹脂與固化劑的比例為9∶1)。然后將RSiC浸入環(huán)氧樹脂與固化劑的混合液中,進(jìn)行抽真空處理,之后在120 ℃下固化180 min,清除掉表面殘留物后可得到EP/RSiC。最后對EP/RSiC進(jìn)行拋光處理,用無水乙醇溶液超聲波清洗干凈后烘干,保存待用。
1.3 環(huán)氧樹脂填充量
通過調(diào)整環(huán)氧樹脂與固化劑的比例與抽真空處理的時(shí)間,本實(shí)驗(yàn)制備了環(huán)氧樹脂填充量分別為8% (體積分?jǐn)?shù)),10%,15%的EP/RSiC,下文分別用8%EP/RSiC,10%EP/RSiC,15%EP/RSiC表示。根據(jù)下式計(jì)算出環(huán)氧樹脂的填充量W:
W=VV0×100% (1)
其中,V為填充環(huán)氧樹脂體積,cm3;V0為RSiC體積,cm3。
1.4 腐蝕速率測試
將試樣分別浸入2 mol/L H2SO4溶液和4 mol/L NaOH溶液中,密封后室溫下保存。每隔24 h取出試樣,用流動(dòng)清水沖洗30 min,再用無水乙醇溶液超聲波清洗,烘干后稱重。每個(gè)試樣稱量5次求平均值,每組3個(gè)平行試樣。實(shí)驗(yàn)采用失重法,根據(jù)下式計(jì)算出試樣分別在2 mol/L H2SO4溶液和4 mol/L NaOH溶液中的腐蝕速率K:
K=W0?W1St (2)
其中,W1為腐蝕后試樣質(zhì)量,mg;W0為試樣原始質(zhì)量,mg;S為試樣表面積,dm2;t為試樣腐蝕時(shí)間,d。
1.5 電化學(xué)測試
用導(dǎo)電膏將絕緣銅線粘到試樣表面后,在銅線與試樣相連處涂上樹脂,防止縫隙腐蝕發(fā)生。再將固定好的試樣浸入腐蝕介質(zhì) (電解質(zhì)) 中,待自腐蝕電位穩(wěn)定后進(jìn)行測試。電化學(xué)測試使用PGSTAT302N 型Autolab電化學(xué)工作站。實(shí)驗(yàn)采用經(jīng)典三電極體系,腐蝕介質(zhì)為2 mol/L H2SO4溶液時(shí),參比電極為Hg2SO4電極,輔助電極為Pt電極,研究試樣為工作電極;腐蝕介質(zhì)為4 mol/L NaOH溶液時(shí),參比電極為Hg-HgO電極,輔助電極為Pt電極,研究試樣為工作電極。電化學(xué)測試在室溫下進(jìn)行,極化曲線的掃描速率為20 mV/s,開始電位為-1 V/s,掃描結(jié)束電位為2.5 V/s。電化學(xué)阻抗使用電化學(xué)工作站EIS軟件測量,測試的振幅為105~10-2 Hz,取50個(gè)測試點(diǎn)。
2 結(jié)果與討論
2.1 EP/RSiC復(fù)合材料的紅外光譜
圖1為E44-環(huán)氧樹脂和EP/RSiC復(fù)合材料的紅外光譜。與標(biāo)準(zhǔn)環(huán)氧樹脂紅外光譜對照[17],可判定EP/RSiC復(fù)合材料中的聚合物僅為環(huán)氧樹脂。波數(shù)在830 cm-1處為對位取代苯環(huán)H的面外彎曲振動(dòng);在915 cm-1處為環(huán)氧基團(tuán)的特征吸收峰;在1250 cm-1處為苯醚伸縮振動(dòng);在1362 cm-1處為雙酚A中雙甲基對稱彎曲振動(dòng);在1610 cm-1處為芳環(huán)C—H伸縮振動(dòng);2853和2928 cm-1分別為甲基和亞甲基的C—H伸縮振動(dòng);3380 cm-1處為OH伸縮振動(dòng)。EP/RSiC復(fù)合材料的主要特征吸收峰與E44-環(huán)氧樹脂基本一致,部分吸收峰向低波數(shù)方向移動(dòng),這說明環(huán)氧樹脂填充了RSiC的結(jié)構(gòu)空隙,并且環(huán)氧樹脂和碳化硅顆粒之間存在類似氫鍵的物理粘結(jié)作用[18]。
圖1 E44-環(huán)氧樹脂和EP/RSiC復(fù)合材料的紅外光譜圖
2.2 EP/RSiC復(fù)合材料的XRD譜
圖2為RSiC、E44-環(huán)氧樹脂和EP/RSiC復(fù)合材料的XRD譜??梢钥闯觯琑SiC在2θ為34°,35°,38°,41°,45°,54°,59°和65°處有尖銳的衍射峰出現(xiàn),這些衍射峰分別對應(yīng) (101),(106),(103),(104),(105),(107),(108) 和 (109) 晶面,表明RSiC具有較好的晶體結(jié)構(gòu);E44-環(huán)氧樹脂在2θ為15°和25°之間出現(xiàn)了寬散的衍射峰,這說明E44-環(huán)氧樹脂為無定型結(jié)構(gòu)的非晶體。對于EP/RSiC復(fù)合材料來說,其同時(shí)具有RSiC和E44-環(huán)氧樹脂的衍射峰特征,這說明RSiC和E44-環(huán)氧樹脂的結(jié)晶狀態(tài)沒有改變,環(huán)氧樹脂和碳化硅顆粒是通過物理粘結(jié)作用結(jié)合在一起,這與從紅外光譜得到的結(jié)果相一致。
圖2 RSiC、E44-環(huán)氧樹脂和EP/RSiC復(fù)合材料的XRD譜
2.3 EP/RSiC復(fù)合材料的表面形貌
圖3為RSiC和EP/RSiC在腐蝕前后的SEM像。對比圖3a和b可以看出,RSiC發(fā)生較為嚴(yán)重的腐蝕,經(jīng)腐蝕后SiC小顆粒消失,一部分SiC大顆粒開始溶解,腐蝕現(xiàn)象明顯。結(jié)合圖3c和d可知,對于EP/RSiC來說,浸入的環(huán)氧樹脂填充了RSiC的結(jié)構(gòu)空隙,減少了氣孔率,經(jīng)腐蝕后有少量的環(huán)氧樹脂脫落,SiC大顆粒受到輕微腐蝕,抗腐蝕性相對于RSiC有顯著提高。
圖3 腐蝕前后的RSiC和EP/RSiC的SEM像
2.4 EP/RSiC復(fù)合材料的極化曲線
圖4是RSiC和EP/RSiC在2 mol/L H2SO4溶液和4 mol/L NaOH溶液中的極化曲線。從圖4a可以看出,在陽極區(qū)間內(nèi),RSiC與EP/RSiC都表現(xiàn)出明顯的由活化向鈍化轉(zhuǎn)變的特征。對于RSiC來說,陽極極化開始后,電流密度隨電壓增加而明顯增加,表現(xiàn)為陽極活性溶解,這是由于Si和C等發(fā)生了快速溶解。極化曲線保持一段時(shí)間的穩(wěn)定之后,腐蝕電流密度迅速減小,RSiC在0.64~1.00 V區(qū)間內(nèi)形成穩(wěn)定的鈍化膜,表現(xiàn)為穩(wěn)定鈍化狀態(tài)。這歸因于試樣在表面形成了致密的鈍化膜,鈍化膜使得試樣表面的陽極活性溶解受到抑制。在2 mol/L H2SO4溶液中,EP/RSiC的鈍化區(qū)間 (-0.14~0.17 V) 與RSiC的鈍化區(qū)間寬度相似,且EP/RSiC的鈍化電流密度比RSiC的更小,因此EP/RSiC比RSiC擁有更好的耐蝕性。從圖4b可以看出,RSiC和EP/RSiC在4 mol/L NaOH溶液中無明顯鈍化區(qū)存在;EP/RSiC的腐蝕電流密度比RSiC的腐蝕電流密度減少了一個(gè)數(shù)量級,同時(shí)腐蝕電位明顯地向正向偏移,這表明EP/RSiC具有更好的抗腐蝕性。
圖4 RSiC和EP/RSiC在2 mol/L H2SO4溶液和4 mol/L NaOH溶液中的極化曲線
SiC在酸性和堿性環(huán)境中的陽極反應(yīng)如下[19]:
在酸性溶液中:
C+2H2O (l)→CO2 (g)+4H+ (aq)+4e?(3)
SiC+2H2O (l)→SiO2 (s)+C(s)+4H+(aq)+4e?(4)
在堿性溶液中:
SiC+6OH? (aq)→SiO32?+C (s)+3H2O+4e? (5)
通過建立的電化學(xué)腐蝕反應(yīng)可以看出,在堿性溶液中,SiC溶解形成C和SiO32-,而在2 mol/L H2SO4溶液中則形成C和SiO2層。在酸性溶液中,SiC與H2O反應(yīng)形成SiO2層,導(dǎo)致腐蝕電流密度的強(qiáng)烈降低和開路電位的正向移動(dòng)。
對極化曲線進(jìn)行擬合,得到的腐蝕電位 (Ecorr) 和腐蝕電流密度 (Icorr) 列于表1。根據(jù)下式計(jì)算出試樣分別在2 mol/L H2SO4溶液和4 mol/L NaOH溶液中的保護(hù)效率:
η=I0corr?IcorrI0corr×100% (6)
其中,η為保護(hù)效率;I0corr為RSiC的腐蝕電流密度,?A/cm2;Icorr為EP/RSiC的腐蝕電流密度,?A/cm2。
表1 由極化曲線得到的電化學(xué)參數(shù)
結(jié)合表1中的電化學(xué)參數(shù)可以看出,無論是在2 mol/L H2SO4溶液中還是4 mol/L NaOH溶液中,與RSiC相比,EP/RSiC腐蝕電位均發(fā)生正向移動(dòng),腐蝕電流密度下降,這說明RSiC的腐蝕傾向高于EP/RSiC的。因?yàn)楦g電位越低,材料越早開始在特定環(huán)境中腐蝕,反之亦然[20]。腐蝕速率由腐蝕電流密度決定,腐蝕電流密度越大,腐蝕速率越快[20],所以RSiC的腐蝕速率大于EP/RSiC的。
2.5 EP/RSiC復(fù)合材料的電化學(xué)阻抗譜
圖5為RSiC和EP/RSiC在2 mol/L H2SO4溶液中的Nyquist和Bode圖。從Nyquist圖中可以看出,RSiC在2 mol/L H2SO4溶液中的阻抗譜僅存在一個(gè)高-低頻的容抗弧,這表明在測試頻率范圍內(nèi),RSiC的電極反應(yīng)由電荷傳遞控制,所以其Bode圖中應(yīng)存在一個(gè)容抗弧,如圖5b所示。對于EP/RSiC來說,其在酸性溶液中的阻抗譜由一個(gè)高-中頻的容抗弧和一個(gè)中-低頻的容抗弧共同組成。高-中頻的容抗弧主要是受到鈍化膜的影響,中-低頻的感抗弧是試樣表面的電子轉(zhuǎn)移造成的。通常認(rèn)為,Nyquist圖的直徑越大,即電荷轉(zhuǎn)移電阻越大,意味著材料具有較高的阻抗和較低的容抗,其抗腐蝕能力就越強(qiáng)[21,22]。結(jié)合圖5a可知,15%EP/RSiC在2 mol/L H2SO4溶液中抗腐蝕性略優(yōu)于10%EP/RSiC和8%EP/RSiC,但遠(yuǎn)勝過RSiC。由圖5b可以看出,與RSiC相比,EP/RSiC的相位角曲線顯著上升,且在更寬的范圍內(nèi)接近-90°,這說明了EP/RSiC復(fù)合材料擁有更小的電容以及更大的電阻,抗腐蝕性顯著提高。
圖5 RSiC和EP/RSiC在2 mol/L H2SO4溶液中的Nyquist和Bode圖
圖6為RSiC和EP/RSiC在4 mol/L NaOH溶液中的Nyquist和Bode圖??梢钥闯?,RSiC和EP/RSiC在4 mol/L NaOH溶液中的阻抗譜為一個(gè)高-低頻的容抗弧,說明在測試頻率范圍內(nèi)電極反應(yīng)由電荷傳遞控制。根據(jù)容抗弧半徑的大小,可以判斷出試樣在堿性溶液中的抗腐蝕性排序?yàn)椋?5%EP/RSiC>10%EP/RSiC>8%EP/RSiC>RSiC。由圖6b可以看出,添加E-44環(huán)氧樹脂后曲線向高頻方向移動(dòng),表明在同一頻率下EP/RSiC的阻抗值更高,耐腐蝕性更好,這與從Nyquist圖得到的結(jié)論相一致。
圖6 RSiC和 EP/RSiC在4 mol/L NaOH溶液中的Nyquist和Bode圖
對RSiC和EP/RSiC在2 mol/L H2SO4和4 mol/L NaOH溶液中的EIS圖進(jìn)行擬合[19,21],擬合采用等效電路圖如圖7所示,獲得的相應(yīng)電化學(xué)參數(shù)在表2中列出。其中,Rs為溶液電阻,Rt為電荷轉(zhuǎn)移電阻,CPEt為試樣表面形成的雙電層電容,Rf為鈍化膜引起的電阻,CPEf是由鈍化膜產(chǎn)生的容抗。由表2可以看出,Rf與CPEf保持穩(wěn)定,說明EP/RSiC在酸性溶液中的腐蝕主要受電荷轉(zhuǎn)移控制。Rt顯著提高,CPEt顯著下降,這使得電荷轉(zhuǎn)移時(shí)將受到更大的阻礙作用,因此試樣的抗腐蝕性更強(qiáng)[21,23]。所以EP/RSiC在酸性溶液和堿性溶液中的抗腐蝕性優(yōu)于RSiC的,這與從極化曲線得到的結(jié)果相一致。
圖7 RSiC和EP/RSiC分別在2 mol/L H2SO4和4 mol/L NaOH溶液中EIS擬合的等效電路
表2 由EIS擬合得到的電化學(xué)參數(shù)
2.6 EP/RSiC復(fù)合材料的腐蝕速率
圖8為RSiC和EP/RSiC分別在2 mol/L H2SO4溶液和4 mol/L NaOH溶液中的腐蝕速率。由圖8a可以看出,在2 mol/L H2SO4溶液中,EP/RSiC腐蝕速率隨環(huán)氧樹脂填充量的增加而減少,且質(zhì)量損失比RSiC更少,這是由于EP/RSiC中大量的氣孔被填充以及E44型環(huán)氧樹脂本身具有良好的抗腐蝕性。同樣的,在4 mol/L NaOH溶液中,也可得到相同結(jié)論。經(jīng)計(jì)算,在2 mol/L H2SO4溶液中,RSiC腐蝕速率穩(wěn)定在311 mg/(dm2·d),15%EP/RSiC的腐蝕速率穩(wěn)定在152 mg/(dm2·d);RSiC的腐蝕速率約為EP/RSiC的2.1倍。在4 mol/L NaOH溶液中,RSiC的腐蝕速率穩(wěn)定在585 mg/(dm2·d),15%EP/RSiC的腐蝕速率穩(wěn)定在310 mg/(dm2·d),RSiC的腐蝕速率約為EP/RSiC的1.8倍。
圖8 RSiC和EP/RSiC分別在2 mol/L H2SO4溶液和4 mol/L NaOH溶液中的腐蝕速率
對比圖8a和b可以看出,與在4 mol/L NaOH溶液中的腐蝕速率比較,RSiC和EP/RSiC在2 mol/L H2SO4溶液中的腐蝕速率要低許多。這是由于兩種材料在2 mol/L H2SO4溶液中都生成了SiO2保護(hù)層,SiO2保護(hù)層在減緩材料腐蝕的同時(shí)也減少了其質(zhì)量變化,最終表現(xiàn)為腐蝕速率的減少。
3 結(jié)論
(1) 在EP/RSiC復(fù)合材料中,E44型環(huán)氧樹脂提高了重結(jié)晶SiC的結(jié)構(gòu)致密性,且與SiC顆粒間結(jié)合良好,在空間結(jié)構(gòu)上減少了SiC顆粒與腐蝕介質(zhì)的接觸面積,起到阻隔作用。
(2) EP/RSiC復(fù)合材料腐蝕的主要原因是SiC顆粒的溶解且腐蝕行為受電荷傳遞控制。增加環(huán)氧樹脂填充量可以提高EP/RSiC抗腐蝕性;其中,15%EP/RSiC的抗腐蝕性最佳,在2 mol/L H2SO4和4 mol/L NaOH溶液中的腐蝕保護(hù)效率分別達(dá)到90.5%和93.7%。